Vvedenie V Tekhnologiyu 3D Tsv Integral'nykh Skhem : Issledovanie protsessov fotoselektivnogo formirovaniya funktsional'nykh struktur v sistemakh na osnove plenok dioksida titana

V dannoy rabote byli podobrany usloviya i sostavy rastvorov, udovletvoryayushchie vsem trebovaniyam, neobkhodimym dlya polucheniya nanometricheskikh nikelevykh plenok, kotorye ispol'zuyutsya v kachestve bar'ernykh i tokoprovodyashchikh sloev pri metallizatsii trudnodostupnykh uchastkov poverkhnosti poluprovodnikov v tekhnologii 3D TSV integral'nykh skhem. Razlichnymi metodami (elektronno-mikroskopicheskoe issledovanie i dr.) polucheny novye dannye o vliyanii razlichnykh aktivatorov (palladievyy, mednyy), soley redkozemel'nykh metallov (lantan, vismut) na protsessy obrazovaniya i rosta zarodyshey novoy fazy (Ni-P), a takzhe na sostav, strukturu i svoystva plenok nikel'-fosfor, formiruyushchikhsya iz rastvora khimicheskogo nikelirovaniya na podlozhkakh razlichnoy prirody (kremniy, steklo, ITO).