Understanding Key Molecular Properties in a CVD Process Feasibility Study : Design of Volatile Non-halogenated Precursors for the Chemical Vapor Deposition (CVD) of Copper

This book examines the rationale of precursor design for a CVD (ChemicalVapor Deposition) process. The effect of molecular properties on the CVDprocess outcome is investigated experimentally and computationally. A novelclass of ligands and resulting complexes is demonstrated as an exampleof tailormade precursors for CVD processes. Key properties such as thermaldecomposition and volatility are shown to be independently tunable andcan be adjusted to the individual process needs. Dieses Buch untersuchtdas Grundprinzip des Designs von Vorläufermolekülen für CVD Prozesse. DerEffekt von molekularen Eigenschaften dieser Moleküle auf den CVD Prozesswird sowohl experimentell als auch theoretisch erforscht. Eine neuartigeKlasse von Liganden und resultierenden Komplexen wird als Beispiel fürmaßgeschneiderte Vorläufermoleküle für CVD Prozesse demonstriert. Haupteigenschaftenwie z.B. thermische Zersetzung und Flüchtigkeit können unabhängig eingestelltwerden und auf den individuellen CVD Prozess abgestimmt werden.