Einfluss der Wärmebehandlung auf die Eigenschaften von transparenten halbleitenden Oxidschichten

In dieser Arbeit soll anhand der Oxidsysteme In2O3:SnO2 und TiO2/SnO2:Al2O3 der Einfluss der Wärmebehandlung auf die Funktionseigenschaften dünner Schichten dargestellt werden. Der Einfluss von Mikrowellenstrahlung auf den Diffusionsprozess wird anhand des Modellsystems TiO2/SnO2:Al2O3 untersucht. Als weitere bisher wenig beachtete Technologie wird die Behandlung der Schichten im atmosphärischen Verbrennungsplasma vorgestellt. Der Einfluss der verschiedenen Wärmebehandlungen auf die Mikrostruktur sowie auf die elektrischen und optischen Eigenschaften der Beschichtung soll für verschiedene Prozessparameter aufgezeigt werden.