Elaboration de Diamant CVD Par Plasma Micro-Onde Ch4-H2 En Mode Puls

Cet ouvrage concerne l'tude d'un procd MPACVD oprant en mode puls dans un mlange gazeux constitu principalement de H2-CH4. Le plasma est caractris essentiellement par la spectroscopie optique d'mission rsolue dans le temps et la fluorescence induite par laser (LIF), afin de discerner les phnomnes physico-chimiques rgissant la cintique des espces ractives responsables du dpt de diamant. La temprature du gaz mesure par LIF partir de l'largissement Doppler a permis d'identifier les mcanismes de perte de l'hydrogne atomique, qui sont domins par la diffusion et la recombinaison en surface, principalement sur le substrat de diamant. L'effet des paramtres temporels du plasma sur les proprits des films de diamant est mis en vidence permettant l'optimisation du procd de dpt. Enfin, les couches autosupportes de diamant sont utilises pour dvelopper, sur la face de nuclation, des dispositifs ondes acoustiques de surface (SAW). Un dispositif SAW d'une structure multicouche ZnO/Al/Diamant est ainsi ralis et caractris, rvlant une vitesse acoustique de 9700 m.s-1 l'interface Diamant/ZnO, qui figure parmi les plus leves dans telles structures.