Synth�se de Couches Minces R�sistives Par Pulv�risation Cathodique

L'laboration de rsistances calculables bases sur des dpts de couches mtalliques ultra minces s'inscrit dans un objectif gnral d'amlioration des connaissances des constantes fondamentales qui constitueront probablement la future base de dfinition des units lectriques dans le Systme International.Un nouvel talon de rsistance en alternatif, compact et robuste, bas sur le dpt d'un film ultra mince a ainsi t dvelopp. Des revtements ont t dposs sur substrats en cramique plans et cylindriques, par pulvrisation cathodique magntron. Les valeurs de rsistance finales sont obtenues par mesures d'impdance de haute prcision et relies aux caractristiques des films telles que l'paisseur, l'homognit chimique ou encore la structure cristalline. Il a fallu matriser les dpts de couches ultra minces sur des substrats cylindriques pour obtenir une homognit sur toute la longueur du substrat et de trs fortes rsistivits par carr. Des consquences directes sont attendues sur les choix futurs du Comit International des Poids et Mesures concernant une ventuelle redfinition du Systme International d'unit.